雙面對準曝光機
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| 英文名稱 | Double Side Mask Aligner |
| 功能說明 | 光罩與晶圓對準曝光顯影 |
| 廠牌型號 | M&R Nano Technology Co.AG350-4N-D-V-S-H |
| 儀器規格 |
1.功率：200W 2.光束尺寸：4″ round 3.試片最大尺寸：4″ 4.最小線寬：2µm |
| 建構年分 | 2008 |
| 收費標準 | 開機費454元，額外加收13.61元/分 |
| 備註 | 1. 校外學術單位：基本收費標準 X 1.5。 2. 校外營利單位：基本收費標準 X 3。 |
| 關鍵字 | Double Side Mask Aligner |
| 放置位置 | 奈微米共同實驗室 |
| 管理者 |
機械工程學系/奈微米共同實驗室 徐瑞培先生 電話：03-4638800 分機：2462 |